최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | UP-0940019 (2004-09-14) |
등록번호 | US-7531061 (2009-07-01) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 23 |
A method and system for controlling the temperatures of at least one gas in a plasma processing environment prior to the at least one gas entering a process chamber. This temperature control may vary at different spatial regions of a showerhead assembly (either an individual gas species or mixed gas
The invention claimed is: 1. A method for etching by operating a temperature controller coupled to an etch process chamber, the method comprising: determining an etch process type; supplying an etch gas to the process chamber through a double helix structure in-line heat exchange assembly, the etch
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.