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Flame retardant photoimagable coverlay compositions and methods relating thereto 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03C-001/725
  • G03C-001/72
  • G03C-001/73
  • G03F-007/027
  • G03F-007/029
출원번호 UP-0642184 (2006-12-20)
등록번호 US-7618766 (2009-11-27)
발명자 / 주소
  • Mutoh, Tsutomu
출원인 / 주소
  • E. I. du Pont de Nemours and Company
대리인 / 주소
    Kaeding, Konrad S.
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 23

초록

The present invention is directed to phosphorus containing (or "halogen free") flame retardant photoimagable compositions useful as a coverlay material in a flexible electronic circuitry package. These compositions are generally photosensitive and comprise phosphorus containing acrylates and phospho

대표청구항

What is claimed is: 1. A photosensitive circuit coverlay composition consisting essentially of: a. an unsaturated phosphorus-containing monomer said monomer being a mono-functional or multi-functional methacrylate or acrylate being present in an amount between and including 20 and 70 weight percent

이 특허에 인용된 특허 (23)

  1. Dueber Thomas E. (Wilmington DE) Nebe William J. (Wilmington DE), Acidic o-nitroaromatics as photoinhibitors of polymerization in positive working films.
  2. Collier ; John R. ; Pilette ; Yvan P., Channeled photosensitive element.
  3. Krongauz, Vadim V.; Ha, Chau T. M.; Rampuria, Sangeeta, Dielectric, radiation-curable coating compositions.
  4. Dessauer Rolf (Greenville DE), Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5,-triphenylimidazole compounds as photoinitiators.
  5. Dueber Thomas Eugene ; Schadt ; III Frank Leonard, Flexible, aqueous processable, photoimageable permanent coatings for printed circuits.
  6. Dueber Thomas Eugene ; Lee Yueh-Ling ; Schadt ; III Frank Leonard, Flexible, flame-retardant, aqueous-processable photoimageable composition for coating flexible printed circuits.
  7. Oddi Michael J. (64 Fairfax St. Burlington MA 01803) Orio Alfred P. (26 River St. Westford MA 01886), Method of applying photoresist by screening in the formation of printed circuits.
  8. Hanson, Mark V.; Timberlake, Larry D., Mixture of mono-, bis- and tris-(hydroxyaryl) phosphine oxides useful to make polyglycidyl ethers or in epoxy compositions.
  9. Schutyser Jan Andre Jozef,NLX ; Buser Antonius Johannes Wilhelmus,NLX ; Steenbergen Andre,NLX, Phosphorous containing resin.
  10. Gottschalk Peter (Centerville OH) Schuster Gary B. (Champaign IL), Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same.
  11. Sheets Thomas M. (Wysox PA), Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer.
  12. Sysak Peter K. (Wilmington DE), Photoimaging compositions containing substituted cyclohexadienone compounds.
  13. Pazos Jose F. (Claymont DE), Photopolymerizable composition containing an o-nitroaromatic compound as photoinhibitor.
  14. Weed Gregory C. (Towanda PA), Photopolymerizable composition containing carboxy benzotriazole.
  15. Flint William L. (Somerset NJ) Pilette Yvan P. (Lawrenceville NJ), Photopolymerizable composition with polymeric binder.
  16. Pazos Jose F. (Claymont DE), Photopolymerizable compositions containing nitroso dimers to selectively inhibit thermal polymerization.
  17. Dueber Thomas E. (Wilmington DE) Gervay Joseph E. (Wilmington DE), Pliable, aqueous processable, photopolymerizable permanent coating for printed circuits.
  18. Losert Ewald (Rheinfelden CHX) Rembold Heinz (Arlesheim CHX), Process for the production of solder masks for printed circuits.
  19. Lipson Melvin A. (Fullerton CA) Knoth Dale W. (Norwalk CA) Custer Walter D. (Garden Grove CA) Gilano Michael N. (Fullerton CA), Process for treating selected areas of a surface with solder.
  20. Geissler Ulrich (Frankfurt DEX) Herwig Walter (Bad Soden DEX), Radiation-polymerizable mixture and photopolymerizable copying material prepared therefrom.
  21. Herwig Walter (Bad Soden DEX) Decker Rudolf (Bodenheim DEX) Sikora Helga (Wiesbaden DEX) Erbes Kurt (Floersheim DEX), Radiation-polymerizable mixture and photopolymerizable copying material prepared therefrom.
  22. Gervay Joseph E. (Red Bank NJ), Storage stable photopolymerizable composition.
  23. Friel ; Daniel D., Vacuum laminating process.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Lu, David D.; Pyun, Eumi, Flame resistant covercoat for flexible circuit.
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