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Photosensitive film 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03F-007/00
  • G03F-007/004
출원번호 UP-0558177 (2006-11-09)
등록번호 US-7645562 (2010-02-22)
우선권정보 JP-09/254816(1997-09-19)
발명자 / 주소
  • Kimura, Jinko
  • Ishikawa, Chikara
  • Tanaka, Youji
  • Takano, Shinji
  • Minami, Yoshitaka
출원인 / 주소
  • Hitachi Chemical Company, Ltd.
대리인 / 주소
    Griffin & Szipl, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 12

초록

A photosensitive film excellent in workability and making it possible, in a normal pressure laminating process, to laminate photosensitive films on the surface of substrate having a metallic surface with a reduced number of air voids generated and in a high product yield, said film comprising a supp

대표청구항

The invention claimed is: 1. A photosensitive film which comprises: a polyethylene terephthalate support film (A); an alkali-developable photosensitive resin composition-containing photosensitive resin layer (B) formed on said support film (A); and a protecting film (C) stuck onto said photosensiti

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Endo Kouhei,JPX ; Tokuda Hiroshi,JPX, Biaxially oriented multilayered film.
  2. Yu Jae-Ok,KRX ; Choi Hyoun-Souk,KRX ; Jeong Il-Young,KRX ; Lee Byeong-Il,KRX ; Park Kie-Jin,KRX, Dry film photoresist.
  3. Nagasawa Kohtaro (Tokyo JPX) Morikubo Kunio (Soka JPX) Satoh Tsutomu (Higashi Kurume JPX), Photocurable light-sensitive composition.
  4. Sasaki Isao (Hiroshima JPX) Mukai Nobuhiro (Ohtake JPX) Ige Hitoshi (Ohtake JPX), Photopolymerizable composition.
  5. Taguchi Tadashi (Kawasaki JPX) Fujikawa Noboru (Fuji JPX) Kohno Mitsuo (Yokohama JPX) Yoshitake Katsumi (Yokosuka JPX) Satake Kunio (Yokohama JPX), Photopolymerizable element comprising a soluble or dispersible oriented film support.
  6. Hilger Manfred (Konz DEX) Klein Norbert (Wiesbaden DEX), Photopolymerizable recording roll material with end caps.
  7. Hoffmann Gerhard (Otterstadt DEX) Hofmann Reiner (Ludwigshafen DEX) Elzer Albert (Otterstadt DEX), Photosensitive recording materials.
  8. Takahashi Masahiko (Fuji JPX) Tabata Shusaku (Fuji JPX), Photosensitive resin composition for producing a relief printing plate.
  9. Dai, Qing; Lu, Jennifer Qing; McKean, Dennis Richard; Row, Eun; Zheng, Li, Planarization process for thin film surfaces.
  10. Mannion Michael J. (Spartanburg SC), Polyolefin composition containing ultrafine sorbitol and xylitol acetals.
  11. Tsutsumi, Katsuaki; Hashimoto, Isao, Protective film and method for preparing same.
  12. Hatanaka Kenji,JPX ; Yamaguchi Satoshi,JPX ; Otani Mitsuo,JPX, Resinous composition for dental use.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Moon, Hee Wan; Lee, Byeong Il, Film type photodegradable transfer material.
  2. Kroeninger, Werner; Schneegans, Manfred, Method for applying a resist layer, uses of adhesive materials, and adhesive materials and resist layer.
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