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Level adjustment systems and adjustable pin chuck thereof 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03B-027/58
출원번호 UP-0390944 (2006-03-28)
등록번호 US-7659964 (2010-04-02)
발명자 / 주소
  • Lin, Burn-Jeng
  • Gau, Tsai-Sheng
  • Chen, Jeng-Horng
출원인 / 주소
  • Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Thomas, Kayden, Horstemeyer & Risley
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 6

초록

A level adjustment system. The level adjustment system includes an adjustable pin chuck, an evacuation device, a level detection device and a length control device. The adjustable pin chuck includes a base and a variable pin to support a substrate. The base includes a recess and an evacuation channe

대표청구항

What is claimed is: 1. A level adjustment system, comprising: an adjustable pin chuck, with a base and at least one variable pin, wherein the base comprises an evacuation channel, the variable pin comprises a hollow column and a piezoelectric element, the hollow column is connected to the evacuatio

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Nishi, Kenji, Exposure method and apparatus.
  2. Akiyama Nobuyuki (Yokohama JPX) Kembo Yukio (Yokohama JPX) Nakagawa Yasuo (Yokohama JPX) Aiuchi Susumu (Yokohama JPX) Nomoto Mineo (Yokohama JPX), Light exposure device and method.
  3. Unno Yasuyuki (Hadano JPX) Orii Seiji (Atsugi JPX) Yonekawa Masami (Atsugi JPX), Projection exposure apparatus with an aberration compensation device of a projection lens.
  4. Okuda, Masakazu, Semiconductor wafer chuck assembly for a semiconductor processing device.
  5. Kondo, Makoto, Substrate holding apparatus and exposure apparatus including substrate holding apparatus.
  6. Kondo, Makoto, Substrate holding unit, exposure apparatus, and device manufacturing method.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Kaskey, Jeffrey; Laidig, Thomas; Markle, Dave; Chen, Jang-Fung, Method and system for handling substrates.
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