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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0227303 (2005-09-15) |
등록번호 | US-7668443 (2010-04-09) |
우선권정보 | SE-0004296(2000-11-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 34 |
A method of controlled heating of a micro channel reactor structure (46, 48, 50) comprises providing a structure (b1, b2, B1, B2) defining a desired temperature profile. A preferred embodiment of a heating element structure comprises a pattern of areas of a material capable of providing heat when en
The invention claimed is: 1. A method of providing a uniform temperature profile across a selected part area of a substrate that is in the form of a rotatable disc comprising the steps of: (i) providing a heating structure defining a) said selected part area to be heated on said rotatable substrate
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