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Tools and methods for disuniting semiconductor wafers 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B32B-038/10
출원번호 UP-0567417 (2006-12-06)
등록번호 US-7740735 (2010-07-12)
우선권정보 FR-02 16902(2002-12-16)
발명자 / 주소
  • Kerdiles, Sebastien
  • Le Vaillant, Yves-Matthieu
출원인 / 주소
  • S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies
대리인 / 주소
    Winston & Strawn LLP
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 12

초록

A tool and method for disuniting two wafers, wherein at least one of the wafers is used in fabricating substrates for microelectronics, optoelectronics, or optics. The method includes the steps of temporarily affixing two gripper members to respective opposite faces of the wafers; and sufficiently d

대표청구항

What is claimed is: 1. A method of disuniting two wafers, with at least one of the wafers being used in fabricating substrates for microelectronics, optoelectronics, or optics, the method comprising the following steps: temporarily affixing two gripper members to respective opposite faces of the wa

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Primavesi Otto Hubert Jan (Offenbach am Main DT) Primavesi ; deceased Alexander (LATE OF Offenbach am Main DT BY Dagmar Charlotte Primavesi ; legal representative), Apparatus and method for transferring a material from a carrier means to a sheet means.
  2. Platzer Stephan J. W. (Eltville-Erbach DEX) Stork Martin (Muehlheim am Main DEX) Hultzsch Guenter (Wiesbaden NJ DEX) Procter Arthur E. (Long Valley NJ) Heist Hans (Wiesbaden DEX), Apparatus for peeling-off a film laminated on a carrier material.
  3. Hayase Iwao (Itami JPX), Apparatus for producing semiconductor wafers.
  4. Elliott Stuart Stanley,AUX, Coverslip pick-up and laydown apparatus.
  5. Nagasaki Koichi,JPX, Electrostatic chuck and production method therefor.
  6. Hiroshi Mogi JP; Yoshikazu Ohtani JP; Kenichi Arai JP; Shinji Kojima JP; Toshimi Kobayashi JP, Electrostatic holding apparatus having insulating layer with enables easy attachment and detachment of semiconductor object.
  7. Ohmi, Kazuaki; Yonehara, Takao; Sakaguchi, Kiyofumi; Yanagita, Kazutaka, Method and apparatus for separating composite member using fluid.
  8. Huberts Petrus A. A. (Mierlo NLX) Wouters Henricus H. B. (Valkenswaard NLX), Method and device for removing a flexible product from a carrier plate.
  9. Jean-Michel Lamure FR; Fran.cedilla.ois Lissalde FR, Method and device for separating a plate of material, in particular semiconductor material, into two wafers.
  10. Kazuaki Omi JP; Takao Yonehara JP; Kiyofumi Sakaguchi JP; Kazutaka Yanagita JP, Object separating apparatus and method, and method of manufacturing semiconductor substrate.
  11. Bruel Michel (Veurey FRX), Process for the production of thin semiconductor material films.
  12. Yanagita, Kazutaka; Yonehara, Takao; Omi, Kazuaki; Sakaguchi, Kiyofumi, Sample separating apparatus and method, and substrate manufacturing method.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Itou, Masanori; Sakamoto, Ryoichi; Sakaue, Takashi, Delamination method, delamination device, and delamination system.
  2. Suzawa, Hideomi; Sasagawa, Shinya; Shimomura, Akihisa; Momo, Junpei; Kurata, Motomu; Muraoka, Taiga; Nei, Kosei, Method for manufacturing SOI substrate.
  3. Ebata, Kenichi; Ito, Yasunori, Peeling device.
  4. Ries, Michael John; Libbert, Jeffrey L.; Witte, Dale A., Systems and methods for cleaving a bonded wafer pair.
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