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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0626402 (2007-01-24) |
등록번호 | US-7745237 (2010-07-19) |
우선권정보 | JP-2006-014525(2006-01-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 4 |
Method of forming a pattern by a nanoimprint technique starts with preparing a mold with nanostructures on its surface. The mold is pressed against a substrate or plate coated with a resin film. The positions of alignment marks formed on the rear surface of the plate coated with the resin film are d
The invention claimed is: 1. A pattern forming method for forming a pattern by pressing a mold with nanostructures on its surface against a plate coated with a resin film by the use of nanoimprinting, said method comprising the steps of: performing a relative alignment between the mold and the plat
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