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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0284094 (2008-09-17) |
등록번호 | US-7807573 (2010-10-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 4 |
Methods of forming a microelectronic structure are described. Embodiments of those methods include forming an identification mark on a portion of a backside of an individual die of a wafer by utilizing laser assisted CVD, wherein the formation of the identification mark is localized to a focal spot
What is claimed is: 1. A method of forming a microelectronic structure, comprising: forming an identification mark on a portion of a backside of an individual die of a wafer by utilizing laser assisted chemical vapor deposition, wherein the formation of the identification mark is localized to a foc
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