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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0678122 (2007-02-23) |
등록번호 | US-7846256 (2011-01-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 23 |
A high conductance, multi-tray film precursor evaporation system coupled with a high conductance vapor delivery system is described for increasing deposition rate by increasing exposed surface area of film precursor. The multi-tray film precursor evaporation system includes one or more trays. Each t
What is claimed is: 1. A replaceable film precursor support assembly for supporting a film precursor and configured to be stacked with one or more other film precursor support assemblies in a film precursor evaporation system in a container thereof having an outer wall, a bottom, and a lid sealabl
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