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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0173410 (2008-07-15) |
등록번호 | US7871563 (2011-01-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 10 인용 특허 : 7 |
Disclosed in this specification is a process for refurbishing a spent sputtering target. The process includes the step of applying sufficient heat and axial force to the filled sputtering target to hot press the filled sputtering target such that the powdered metal fuses with the un-sputtered metal,
What is claimed is: 1. A process for refurbishing a spent sputtering target to restore it to its original form comprising the steps of:receiving a spent sputtering target comprised of an un-sputtered metal of a particular composition, wherein the spent sputtering target has a non-uniform depleted re
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