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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0914040 (2007-10-10) |
등록번호 | US7871744 (2011-01-03) |
우선권정보 | JP-2006-006-276093(2006-10-10) |
국제출원번호 | PCT/JP2007/070220 (2007-10-10) |
§371/§102 date | 20071109 (20071109) |
국제공개번호 | WO08/047818 (2008-04-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 2 |
A near-field exposure apparatus includes a near-field exposure mask and a mechanism places a substrate, to be exposed, opposed to the near-field exposure mask. A mechanism performs relative alignment of the near-field exposure mask and the substrate to be exposed. A mechanism closely contacts the ne
The invention claimed is: 1. A near-field exposure apparatus comprising:a near-field exposure mask;a mechanism configured to place a substrate, to be exposed, opposed to the near-field exposure mask;a mechanism configured to perform relative alignment of the near-field exposure mask and the substrat
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