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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0524610 (2003-05-06) |
등록번호 | US7872333 (2011-01-03) |
우선권정보 | DE-2003-02 37 787(2003-08-17) |
국제출원번호 | PCT/DE03/01437 (2003-05-06) |
§371/§102 date | 20050811 (20050811) |
국제공개번호 | WO04/018348 (2004-03-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 10 |
A layer system is described including a silicon layer and a passivation layer which is applied at least regionally to the silicon layer's surface, the passivation layer having a first, at least largely inorganic partial layer and a second partial layer, the second partial layer being made of an orga
What is claimed is: 1. A layer system, comprising:an etched layer, whereby the etched layer is a silicon layer; anda passivation layer applied at least regionally to a surface of the silicon layer, wherein:the passivation layer includes a first, at least largely, inorganic partial layer and a second
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