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특허 상세정보

Chemical liquid supply device

국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) G01F-011/00   
미국특허분류(USC) 222/318; 222/504; 222/108; 251/065; 239/124; 118/300; 118/323
출원번호 US-0774686 (2007-07-09)
등록번호 US7878375 (2011-01-18)
우선권정보 JP-2006-006-190460(2006-07-11)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    McCormick, Paulding & Huber LLP
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 6
초록

A chemical liquid supply device applies chemical liquid from a nozzle to a processed object. The nozzle is provided in a moving head, which reciprocates between an applying position and a waiting position and includes an application valve operating so as to take an applying state of applying the liquid from the nozzle and a stopped state of stopping the application. Chemical liquid is pumped from a tank through a filter to a valve chamber of the application valve via a supply tube. The valve chamber is connected to a buffer tank through a circulation tub...

대표
청구항

What is claimed is: 1. A chemical liquid supply device for supplying chemical liquid to a processed object, the device comprising:a moving head including a nozzle for applying the chemical liquid, the moving head reciprocating between an applying position and a waiting position by a reciprocating member;a supply tube connected between the nozzle and a chemical liquid supply unit including a chemical-liquid tank, a pump for discharging the chemical liquid in the chemical liquid tank, and a filter for filtering the chemical liquid discharged from the pump,...