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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0565486 (2004-07-21) |
등록번호 | US7879137 (2011-01-18) |
국제출원번호 | PCT/US2004/023490 (2004-07-21) |
§371/§102 date | 20060504 (20060504) |
국제공개번호 | WO05/010619 (2005-02-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 32 |
A lithographic projection apparatus (1) includes a support configured to support a patterning device (MA), the patterning device configured to pattern the projection beam according to a desired pattern. The apparatus has a substrate (W) table configure to hold a substrate, a projection system config
What is claimed is: 1. A purge gas mixture supply system, comprising:a purge gas mixture generator comprising a moisturizer configured to add moisture to a purge gas, wherein said moisturizer comprises a first region containing a purge gas flow and a second region containing water wherein the first
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