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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0015675 (2001-12-17) |
등록번호 | US7887714 (2011-02-02) |
우선권정보 | JP-2000-000-392592(2000-12-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 8 |
There is provided an abrasive used for polishing a substrate which comprises silica as a main component, for example a rock crystal, a quartz glass for photomask, for CMP of an organic film, Inter Layer Dielectric (ILD) and shallow trench isolation of a semiconductor device, or for polishing a hard
What is claimed is: 1. An abrasive for polishing a rock crystal, a quartz glass for a photomask, a semiconductor device or a hard disk made of glass, the abrasive comprising a sol, which includes particles dispersed in an aqueous medium, wherein:the particles comprise as a main component crystalline
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