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Gas distribution plate assembly for plasma reactors 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/455
출원번호 US-0755617 (2004-01-12)
등록번호 US7892357 (2011-02-08)
발명자 / 주소
  • Srivastava, Aseem K.
출원인 / 주소
  • Axcelis Technologies, Inc.
대리인 / 주소
    Cantor Colburn LLP
인용정보 피인용 횟수 : 10  인용 특허 : 14

초록 ▼

A baffle plate assembly for distributing gas flows into an adjacent process chamber containing a semiconductor wafer to be processed includes a planar gas distribution portion having a plurality of apertures therein; a flange surrounding the gas distribution portion; and an impingement device centra

대표청구항 ▼

The invention claimed is: 1. A baffle plate assembly for distributing gas flows into an adjacent process chamber containing a semiconductor wafer to be processed, comprising:a single generally circular planar gas distribution portion having a plurality of apertures therein;a flange surrounding the g

이 특허에 인용된 특허 (14)

  1. Kinnard, David W.; Richardson, Daniel B., Actively-cooled distribution plate for reducing reactive gas temperature in a plasma processing system.
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  2. Chen Chen-An ; Littau Karl Anthony, Chemical vapor deposition manifold.
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  3. Ohmi Tadahiro (1-17-301 ; Komegabukuro 2-chome Aoba-ku ; Sendai-shi ; Miyagi-ken 980 JPX), Device for plasma process.
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  4. Srivastava Aseem K., Dual plasma source for plasma process chamber.
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  5. Tracy David H. (Norwalk CT) Smith Donald L. (Palo Alto CA), Electrode for plasma etching system.
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  6. Matsuse, Kimihiro, Film forming apparatus and film forming method.
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  7. Fangli Hao ; Rajinder Dhindsa, Gas distribution apparatus for semiconductor processing.
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  8. Kinnard, David W., Gas distribution plate assembly for providing laminar gas flow across the surface of a substrate.
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  9. Maydan Dan (Los Altos Hills CA) Mak Steve S. Y. (Pleasanton CA) Olgado Donald (Mountain View CA) Yin Gerald Zheyao (Cupertino CA) Driscoll Timothy D. (Hamilton MT) Shieh Brian (Hualien TWX) Papanu Ja, Gas injection slit nozzle for a plasma process reactor.
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  10. Srivastava, Aseem Kumar; Sawin, Herbert Harold; Sakthievel, Palanikumaran, Method and apparatus for micro-jet enabled, low-energy ion generation transport in plasma processing.
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  11. Lee Changhun ; Singh Vikram ; Yang Yun-Yen Jack, Methods and apparatus for passivating a substrate in a plasma reactor.
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  12. Janos, Alan C.; Cardoso, Andre G.; Richardson, Daniel B., Optimized optical system design for endpoint detection.
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  13. Chang Mei (Cupertino CA) Leung Cissy (Fremont CA), Plasma processing apparatus.
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  14. Kinnard David W. ; Cardoso Andre G., Zone controlled radiant heating system utilizing focused reflector.
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이 특허를 인용한 특허 (10)

  1. Burkhart, Christopher William; Lee, Andrew C., Additively manufactured gas distribution manifold.
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  2. Burkhart, Christopher William; Lee, Andrew C.; Hemker, David J., Additively manufactured gas distribution manifold.
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  3. Yang, Seung-Kook; Kang, Jung-Hyun, Baffle and substrate treating apparatuses including the same.
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  4. Egley, Fred D.; Kang, Michael S.; Chen, Anthony L.; Kuo, Jack; Shih, Hong; Outka, Duane; Morel, Bruno, Bare aluminum baffles for resist stripping chambers.
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  5. Taskar, Mark; Shareef, Iqbal, Configuration independent gas delivery system.
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  6. Shareef, Iqbal A.; Taskar, Mark, Fluid mixing hub for semiconductor processing tool.
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  7. Vukovic, Mirko, Gas distribution system and method for distributing process gas in a processing system.
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  8. Kellogg, Michael C.; Lee, Andrew C.; Pena, Christopher J., Monolithic manifold mask and substrate concepts.
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  9. Moriya, Shuji; Shindo, Toyohiko; Tamura, Noboru, Processing apparatus.
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  10. Ota, Takashi; Akanishi, Yuya; Hashizume, Akio, Substrate processing method and substrate processing apparatus.
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