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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0798884 (2007-05-17) |
등록번호 | US7906273 (2011-03-01) |
우선권정보 | TW-2006-5118709 A(2006-05-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
A method of manufacturing a hollow micro-needle structure includes the steps of: disposing a first mask layer and a second mask layer respectively aside a first substrate and aside a rear surface of the first substrate, wherein the first substrate is transparent to predetermined light; forming a pho
What is claimed is: 1. A method of manufacturing a hollow micro-needle structure, the method comprising the steps of:(a) disposing a first mask layer and a second mask layer respectively aside a front surface of a first substrate and aside a rear surface of the first substrate, wherein the first sub
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