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[미국특허] Laser produced plasma EUV light source 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H05G-002/00
출원번호 US-0644153 (2006-12-22)
등록번호 US7928416 (2011-04-05)
발명자 / 주소
  • Fomenkov, Igor V.
출원인 / 주소
  • Cymer, Inc.
대리인 / 주소
    Matthew K., Hillman
인용정보 피인용 횟수 : 18  인용 특허 : 0

초록 ▼

An EUV light source is disclosed which may comprise a plurality of targets, e.g., tin droplets, and a system generating pre-pulses and main-pulses with the pre-pulses for irradiating targets to produce expanded targets. The system may further comprise a continuously pumped laser device generating th

대표청구항 ▼

What is claimed is: 1. An EUV light source comprising:a plurality of targets;a system generating laser pulses on an output beam path, the laser pulses for irradiating targets to produce a burst of EUV light pulses;an instrument measuring an intensity of at least a portion of one EUV light pulse with

이 특허를 인용한 특허 (18) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Taniguchi, Yuta, Apparatus and method for energy beam position alignment.
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  2. Ershov, Alexander I., Drive laser delivery systems for EUV light source.
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  3. Partlo, William N.; Sandstrom, Richard L.; Brown, Daniel J. W.; Fomenkov, Igor V., EUV light source with subsystem(s) for maintaining LPP drive laser output during EUV non-output periods.
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  4. Tao, Yezheng; Rafac, Robert Jay; Fomenkov, Igor V.; Brown, Daniel J. W., Extreme ultraviolet light source.
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  5. Endo, Akira; Nowak, Krzysztof; Hoshino, Hideo; Ariga, Tatsuya; Moriya, Masato; Wakabayashi, Osamu, Extreme ultraviolet light source device, laser light source device for extreme ultraviolet light source device and method for controlling saturable absorber used in extreme ultraviolet light source device.
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  6. Endo, Akira; Nowak, Krzysztof; Hoshino, Hideo; Ariga, Tatsuya; Moriya, Masato; Wakabayashi, Osamu, Extreme ultraviolet light source device, laser light source device for extreme ultraviolet light source device, and method for controlling saturable absorber used in extreme ultraviolet light source device.
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  7. Kurosawa, Yoshiaki; Kawasuji, Yasufumi, Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation system.
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  8. Kawasuji, Yasufumi; Takaoka, Naoya; Yokozuka, Toshio, Laser apparatus, EUV light generation system, and method of controlling laser apparatus.
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  9. Nowak, Krzysztof; Wakabayashi, Osamu; Hoshino, Hideo, Laser beam output control with optical shutter.
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  10. Bykanov, Alexander N.; Fomenkov, Igor V., Laser produced plasma EUV light source.
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  11. Hou, Kai-Chung; Sandstrom, Richard L.; Partlo, William N.; Brown, Daniel J. W.; Fomenkov, Igor V., Master oscillator-power amplifier drive laser with pre-pulse for EUV light source.
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  12. Crouch, James; Jacques, Robert; Graham, Matthew R.; Liu, Andrew, Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing.
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  13. Schafgans, Alexander; Crouch, James; Graham, Matthew R.; Chang, Steven; Frihauf, Paul; Liu, Andrew; Dunstan, Wayne, Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing.
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  14. Hou, Kai-Chung; Sandstrom, Richard L.; Partlo, William N.; Brown, Daniel J. W.; Fomenkov, Igor V., Oscillator-amplifier drive laser with seed protection for an EUV light source.
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  15. Kuritsyn, Alexey; Liu, Ye; Khodykin, Oleg, Plasma based light source having a target material coated on a cylindrically-symmetric element.
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  16. Flock, Klaus, Pulsed laser induced plasma light source.
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  17. Van Schoot, Jan Bernard Plechelmus; Kempen, Antonius Theodorus Wilhelmus; Kreuwel, Hermanus; Yakunin, Andrei Mikhailovich, Radiation source.
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  18. Sandstrom, Richard L., System and method for seed laser mode stabilization.
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