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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0514661 (2003-05-16) |
등록번호 | US7968154 (2011-06-15) |
우선권정보 | GB-2002-211354.6(2002-05-17) |
국제출원번호 | PCT/GB03/02140 (2003-05-16) |
§371/§102 date | 20050520 (20050520) |
국제공개번호 | WO/097245 (2003-11-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 21 |
The invention relates to a method and apparatus for applying and forming a coating on a substrate surface by the application of at least one atomized coating forming material onto the substrate to form the coating. The atomized coating forming material, upon leaving a suitable atomizer which can be
The invention claimed is: 1. A method for depositing a coating, said method comprising the steps of:introducing an atomised liquid coating forming material into an exciting medium in a vacuum chamber;said exciting medium is a plasma discharge and/or species generated by a plasma;said atomised coatin
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