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Semispherical integrated circuit structures 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-031/105
출원번호 US-0621956 (2009-11-19)
등록번호 US7986022 (2011-07-12)
발명자 / 주소
  • Cheng, Kangguo
  • Furukawa, Toshiharu
  • Robison, Robert R.
  • Tonti, William R.
  • Williams, Richard Q.
출원인 / 주소
  • International Business Machines Corporation
대리인 / 주소
    Gibb I.P. Law Firm, LLC
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 17

초록

A diode comprises a substrate formed of a first material having a first doping polarity. The substrate has a planar surface and at least one semispherical structure extending from the planar surface. The semispherical structure is formed of the first material. A layer of second material is over the

대표청구항

What is claimed is: 1. An integrated circuit structure comprising:a substrate comprising a first material having a first doping polarity, said substrate having a planar surface and at least one semispherical structure extending from said planar surface, said semispherical structure comprising said f

이 특허에 인용된 특허 (17)

  1. Sharp, Joelle; Madson, Gordon K., Hydrogen anneal for creating an enhanced trench for trench MOSFETS.
  2. Lee, Min Hyung, Image sensor with metal interconnection having protruding convex shape with photodiode conformally following metal interconnection shape and method of manufacturing the same.
  3. Crow John ; Koester Steve ; Kuchta Daniel M. ; Rogers Dennis L. ; Sadana Devendra ; Tiwari Sandip, Lateral trench optical detectors.
  4. Haitz Roland H. (Portola Valley CA), Light-emitting diode with diagonal faces.
  5. Sato Nobuhiko,JPX ; Yonehara Takao,JPX ; Sakaguchi Kiyofumi,JPX, Method for producing semiconductor substrate.
  6. Kang, Hwa-Young; Lee, Jung-Kee, Method of manufacturing a photodiode to have an active region with a convex-lens-shaped surface.
  7. Lim Chong Wee,MYX ; Siah Soh Yun,SGX ; Lim Eng Hua,SGX ; Lee Kong-Hean,SGX ; Low Chun Hui,MYX, Method to form shallow trench isolations with rounded corners and reduced trench oxide recess.
  8. Min Yang ; Kern Rim, Methods for forming lateral trench optical detectors.
  9. Myers David J. (Plano TX), Optoelectronic displays using uniformly spaced arrays of semi-sphere light-emitting diodes.
  10. Hammerbacher Milfred D. (Dallas TX), Output-increasing, protective cover for a solar cell.
  11. Nakata Josuke,JPX, Photo cells, photo cell arrays, and electrolytic devices using these cells and arrays.
  12. Sugawara, Shin; Kyoda, Takeshi; Arimune, Hisao, Photoelectric conversion device.
  13. Zhang, Hongyong; Sakakura, Masayuki, Photoelectric converter and fabrication method thereof.
  14. Zhang Hongyong,JPX ; Sakakura Masayuki,JPX, Photoelectric converter wherein the lower electrode has bends.
  15. Horie Hiroshi (Kawasaki JPX) Fukuroda Atsushi (Kawasaki JPX) Arimoto Yoshihiro (Kawasaki JPX), SOI device having a buried layer of reduced resistivity.
  16. Cohen, Guy Moshe; Rim, Kern; Rogers, Dennis L.; Schaub, Jeremy Daniel; Yang, Min, Semiconductor-on-insulator lateral p-i-n photodetector with a reflecting mirror and backside contact and method for forming the same.
  17. Kwark, Young H.; Moy, Dan; Ritter, Mark B.; Rogers, Dennis L.; Welser, Jeffrey J., Silicon-on-insulator (SOI) trench photodiode.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Ohchi, Tomokazu, Solid-state imaging apparatus, method of manufacturing the same, and electronic apparatus.
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