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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0592773 (2009-12-02) |
등록번호 | US7990549 (2011-07-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 148 |
An optical metrology apparatus for measuring periodic structures using multiple incident azimuthal (phi) and polar (theta) incident angles is described. One embodiment provides the enhanced calculation speed for the special case of phi=90 incidence for 1-D (line and space) structures, which has the
What is claimed is: 1. A method of characterizing a diffraction grating structure, comprisingcollecting a first set of reflected data from the grating structure by providing incident light at a first angle of azimuthal incidence with respect to the grating structure;collecting a second set of reflec
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