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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0496649 (2001-11-26) |
등록번호 | US8001808 (2011-08-08) |
국제출원번호 | PCT/EP01/13701 (2001-11-26) |
§371/§102 date | 20041104 (20041104) |
국제공개번호 | WO/045860 (2003-06-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 5 |
A burner for a vapor deposition process has a cylindrical central gas passage and a plurality of external gas passages surrounding the central gas passage. The burner has a back block defining an initial section of the gas passages, a face block defining a final section of the gas passages and a man
What is claimed is: 1. A burner for a vapour deposition process, the burner having a longitudinal axis and comprising:a gas-receiving block and a gas-ejecting block releasably coupled to each other;said gas-receiving block being longitudinally independent from the gas-ejecting block;the gas-receivin
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