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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0590151 (2009-11-03) |
등록번호 | US8014000 (2011-08-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 119 |
A spectroscopy system is provided which is optimized for operation in the VUV region and capable of performing well in the DUV-NIR region. Additionally, the system incorporates an optical module which presents selectable sources and detectors optimized for use in the VUV and DUV-NIR. As well, the op
What is claimed is: 1. A method for analyzing a scattering or diffracting structure that includes a pattern having a pitch, the method comprising:providing a below deep ultra-violet (DUV) wavelength reflectometer configured for normal incidence operation and having a light source that provides at le
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