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Carrier head with retaining ring and carrier ring 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B24B-041/06
출원번호 US-0698009 (2010-02-01)
등록번호 US8021215 (2011-09-06)
발명자 / 주소
  • Zuniga, Steven M.
  • Nagengast, Andrew J.
  • Oh, Jeonghoon
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Fish & Richardson P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 16

초록

A carrier head that has a housing, a base assembly, a retaining ring, a carrier ring, and a flexible membrane is described. The base assembly is vertically movable relative to the housing. The retaining ring is connected to and vertically movable relative to the base assembly and has a lower surface

대표청구항

What is claimed is: 1. A carrier head for chemical mechanical polishing of a substrate on a polishing pad, comprising:a base;an annular retaining ring having an inner surface configured to circumferentially surround an edge of the substrate to retain the substrate, an outer surface, and a lower surf

이 특허에 인용된 특허 (16)

  1. Nakashiba Masamichi,JPX ; Kimura Norio,JPX ; Watanabe Isamu,JPX ; Hasegawa Yoko,JPX, Apparatus for and method of polishing workpiece.
  2. Zuniga Steven M. ; Birang Manoocher ; Chen Hung ; Ko Sen-Hou, Carrier head with a flexible membrane for a chemical mechanical polishing system.
  3. Steven M. Zuniga ; Gopalakrishna B. Prahbu ; Steven T. Mear, Carrier head with controllable edge pressure.
  4. Zuniga, Steven M.; Tseng, Ming-Kuei, Carrier head with edge load retaining ring.
  5. Zuniga, Steven M., Carrier head with non-contact retainer.
  6. Zuniga, Steven M.; Nagengast, Andrew J.; Oh, Jeonghoon, Carrier head with retaining ring and carrier ring.
  7. Maloney,Gerard S.; Chin,Scott; Geraghty,John J.; Dyson, Jr.,William; Dickey,Tanlin K., Chemical mechanical polishing head assembly having floating wafer carrier and retaining ring.
  8. Cheng Tsungnan ; Kao Shou-Chen ; Sherwood Michael T., Method and apparatus for conditioning a polishing pad in a chemical mechanical polishing system.
  9. Chen, Hung Chih; Zuniga, Steven M., Multi-chamber carrier head with a flexible membrane.
  10. Gonzalez Jose ; Jordan Dave ; Tudhope Andrew, Recyclable retaining ring assembly for a chemical mechanical polishing apparatus.
  11. Zuniga, Steven M.; Nagengast, Andrew J.; Oh, Jeonghoon, Retaining ring, flexible membrane for applying load to a retaining ring, and retaining ring assembly.
  12. Mitchel Fred E. ; Adams John A. ; Bibby Thomas Frederick A., Semiconductor wafer polishing apparatus with a variable polishing force wafer carrier head.
  13. Jackson Paul, Structure and method for three chamber CMP polishing head.
  14. Prince, John, Substrate retaining ring.
  15. Cesna Joseph V. ; Kim Inki, Wafer polishing carrier and ring extension therefor.
  16. Seiji Katsuoka JP; Hozumi Yasuda JP; Tadakazu Sone JP; Shunichiro Kojima JP; Manabu Tsujimura JP, Workpiece polishing apparatus comprising a fluid pressure bag provided between a pressing surface and the workpiece and method of use thereof.

이 특허를 인용한 특허 (13)

  1. Duescher, Wayne O., Bellows driven air floatation abrading workholder.
  2. Duescher, Wayne O., Bellows driven floatation-type abrading workholder.
  3. Chen, Hung Chih; Hsu, Samuel Chu-Chiang; Yuan, Yin; Zhang, Huanbo; Dandavate, Gautam Shashank, Carrier head with narrow inner ring and wide outer ring.
  4. Fukushima, Makoto; Yasuda, Hozumi; Nabeya, Osamu; Watanabe, Katsuhide; Namiki, Keisuke, Elastic membrane for semiconductor wafer polishing.
  5. Duescher, Wayne O., Flexible diaphragm combination floating and rigid abrading workholder.
  6. Duescher, Wayne O.; Duescher, Cameron M., Flexible diaphragm post-type floating and rigid abrading workholder.
  7. Zuniga, Steven M.; Nagengast, Andrew J.; Oh, Jeonghoon, Flexible membrane for carrier head.
  8. Chen, Hung Chih; Hsu, Samuel Chu-Chiang; Yuan, Yin; Zhang, Huanbo; Dandavate, Gautam Shashank, Inner retaining ring and outer retaining ring for carrier head.
  9. Duescher, Wayne O., Pin driven flexible chamber abrading workholder.
  10. Nabeya, Osamu; Togawa, Tetsuji; Fukushima, Makoto; Yasuda, Hozumi, Polishing apparatus.
  11. Duescher, Wayne O., Spider arm driven flexible chamber abrading workholder.
  12. Duescher, Wayne O.; Duescher, Cameron M., Vacuum-grooved membrane abrasive polishing wafer workholder.
  13. Duescher, Wayne O.; Duescher, Cameron M., Vacuum-grooved membrane wafer polishing workholder.
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