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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0849648 (2010-08-03) |
등록번호 | US8043886 (2011-10-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 5 |
Processes for fabricating a contact grid for a photovoltaic cell generally includes providing a photovoltaic cell having an antireflective coating disposed on a sun facing side, the photovoltaic cell comprising a silicon substrate having a p-n junction; soft stamping a pattern of a UV sensitive phot
What is claimed is: 1. A process for fabricating a contact grid for a photovoltaic cell, the process comprising:providing a photovoltaic cell having an antireflective coating disposed on a sun facing side, the photovoltaic cell comprising a silicon substrate having a p-n junction;soft stamping a UV
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