[특허]Damping arrangement, active damping system, lithographic apparatus, and projection assembly

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[미국특허] Damping arrangement, active damping system, lithographic apparatus, and projection assembly 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03B-027/52
출원번호	US-0268622 (2008-11-11)
등록번호	US8059259 (2011-11-01)
발명자 / 주소	Butler, Hans Van Der Wijst, Marc Wilhelmus Maria De Pee, Joost De Hoon, Cornelius Adrianus Lambertus Boschker, Stijn
출원인 / 주소	ASML Netherlands B.V.
대리인 / 주소	Sterne, Kessler, Goldstein & Fox P.L.L.C.
인용정보	피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 3

초록 ▼

An active damping system assembly is configured to dampen a vibration of at least part of a structure. The assembly includes a plurality of active dampers each including a sensor configured to measure a position quantity of an interface mass mounted on the structure; and an actuator configured to exert a force on the interface mass in dependency of a signal provided by the sensor, wherein each of the plurality of active damping systems is connected to the interface mass. The structure may be a projection system of a lithographic apparatus.

대표청구항 ▼

What is claimed is: 1. An active damping assembly configured to dampen a vibration of at least part of a structure, the active damping system assembly comprising:an interface mass mounted on the structure;active dampers each including:a sensor connected to the interface mass and configured to measure a position of the interface mass; andan actuator mounted between a reaction body and the interface mass, wherein the actuator is configured to exert a force on the interface mass based on a signal provided by the sensor,wherein each of the active dampers is connected directly or indirectly to the interface mass, andwherein the interface mass surrounds the structure.

이 특허에 인용된 특허 (3) 인용/피인용 타임라인 분석

Andrianos Nikos P. (Pittsburgh PA), Active vibration reduction in apparatus with cross-coupling between control axes.
상세보기
Hiroaki Takeishi JP, Exposure apparatus.
상세보기
Masato Takahashi JP; Futoshi Mori JP, Projection exposure apparatus.
상세보기

이 특허를 인용한 특허 (4) 인용/피인용 타임라인 분석

Butler, Hans; Van Der Wijst, Marc Wilhelmus Maria; De Pee, Joost; De Hoon, Cornelius Adrianus Lambertus; Boschker, Stijn, Combination of structure and an active damping system, and a lithographic apparatus.
상세보기
Butler, Hans; Bleeker, Arno Jan; Hennus, Pieter Renaat Maria; Hoeks, Martinus Hendricus Henricus; Hol, Sven Antoin Johan; Van Der Schoot, Harmen Klaas; Slaghekke, Bernardus Antonius; Tinnemans, Patricius Aloysius Jacobus; Van Der Wijst, Marc Wilhelmus Maria; Zaal, Koen Jacobus Johannes Maria; Cadee, Theodorus Petrus Maria; Beerens, Ruud Antonius Catharina Maria; Fischer, Olof Martinus Josephus; Aangenent, Wilhelmus Henricus Theodorus Maria; Bosch, Niels Johannes Maria, Lithographic apparatus and device manufacturing method.
상세보기
Butler, Hans; Oude Nijhuis, Marco Hendrikus Hermanus, Lithographic apparatus for transferring pattern from patterning device onto substrate, and damping method.
상세보기
Tan, Mark K.; Kopec, Nicholas M.; Blank, Richard M., Mass damper for semiconductor wafer handling end effector.
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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