최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0798150 (2010-03-29) |
등록번호 | US-RE42980 (2011-11-16) |
우선권정보 | DE-2002-02 60 235(2002-12-20) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 29 |
A method in which a resist layer is applied to a base layer is disclosed. The resist layer includes an adhesive material, and the adhesive force of the adhesive material decreases or increases during an irradiation process. Residues of the resist layer may be stripped using the disclosed method.
What is claimed is: 1. A method for the application of a resist layer, comprising:applying a resist layer to a base layer;selectively irradiating the resist layer; anddeveloping the resist layer,wherein the resist layer is applied to the base layer in the solid state; andwherein a matching resist pi
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.