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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0408333 (2006-04-21) |
등록번호 | US-8157951 (2012-04-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 88 |
A plasma reactor for processing a workpiece includes a reactor chamber, an electrostatic chuck within the chamber having a top surface for supporting a workpiece and having indentations in the top surface that form enclosed gas flow channels whenever covered by a workpiece resting on the top surface
1. A plasma reactor for processing a workpiece, comprising: a reactor chamber;an electrostatic chuck within said chamber having a top surface for supporting a production workpiece and having indentations in said top support surface that form enclosed gas flow channels whenever covered by a workpiece
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