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Application of wideband sampling for arc detection with a probabilistic model for quantitatively measuring arc events 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01H-009/50
출원번호 US-0175867 (2008-07-18)
등록번호 US-8289029 (2012-10-16)
발명자 / 주소
  • Coumou, David J.
출원인 / 주소
  • MKS Instruments, Inc.
대리인 / 주소
    Harness, Dickey & Pierce, P.L.C.
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 14

초록

An arc detection system for a plasma generation system includes a radio frequency (RF) sensor that generates first and second signals based on a respective electrical properties of (RF) power that is in communication with a plasma chamber. A correlation module generates an arc detect signal based on

대표청구항

1. An arc detection system for a plasma generation system, comprising: a radio frequency (RF) sensor that generates first and second signals based on a respective electrical properties of RF power that is in communication with a plasma chamber; and an analysis module that generates an arc detect sig

이 특허에 인용된 특허 (14)

  1. Strang, Eric J., Apparatus and method for improving microwave coupling to a resonant cavity.
  2. van Zyl,Gideon J., Arc detection and handling in radio frequency power applications.
  3. Matsuoka Mamoru (Ibaraki JPX), Arc discharge abnormality detecting system.
  4. Anwar, Suhail; Manacio, Remegio; Park, Chung Hee; Yim, Dong Kil; Choi, Soo Young, Detection and suppression of electrical arcing.
  5. Anwar,Suhail; Manacio,Remegio; Park,Chung Hee; Yim,Dong Kil; Choi,Soo Young, Detection and suppression of electrical arcing.
  6. Fisk, II, Larry James; VanRemmen, Jr., William John; Nasman, Kevin Peter, Fast transient protection for RF plasma generator.
  7. Valcore, John; Han, Yufeng; Smyka, Jonathan; Polizzo, Salvatore; Radomski, Aaron T., Harmonic derived arc detector.
  8. van Zyl, Gideon, Method and apparatus for modifying interactions between an electrical generator and a nonlinear load.
  9. Moroz,Paul; Strang,Eric, Method and system for arc suppression in a plasma processing system.
  10. Kuriyama,Noboru, Method of detecting an arc in a glow-discharge device and apparatus for controlling a high-frequency arc discharge.
  11. Tomioka Kazuhiro,JPX, Plasma processing apparatus and method.
  12. Korte Theodore H. ; Malec Jeffrey M. ; Hu Zhiqun ; Abascal Carlos ; Keller James P., RF power amplifier control system.
  13. Mahoney, Leonard J.; Almgren, Carl W.; Roche, Gregory A.; Saylor, William W.; Sproul, William D.; Walde, Hendrik V., Sensor array for measuring plasma characteristics in plasma processing environments.
  14. Takeda, Tomohiko; Sugihara, Ken; Hamano, Katsuyoshi; Yoshino, Teruo; Ishimaru, Nobuo, Substrate processing apparatus and substrate processing method.

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Coumou, David J., Application of wideband sampling for arc detection with a probabilistic model for quantitatively measuring arc events.
  2. Eriksson, Thomas; Halen, Stefan; Hedberg, Jonas, Arc detector and associated method for detecting undesired arcs.
  3. Bhutta, Imran Ahmed, Electronically variable capacitor and RF matching network incorporating same.
  4. Bhutta, Imran Ahmed, High speed high voltage switching circuit.
  5. Bhutta, Imran, High voltage switching circuit.
  6. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
  7. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
  8. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
  9. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
  10. Mavretic, Anton, RF impedance matching network.
  11. Mavretic, Anton, RF impedance matching network.
  12. Mavretic, Anton, Switching circuit.
  13. Mavretic, Anton, Switching circuit.
  14. Mavretic, Anton, Switching circuit for RF currents.
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