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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0235114 (2008-09-22) |
등록번호 | US-8297223 (2012-10-30) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 32 |
This disclosure pertains to a method and apparatus to permit changing a filter on the input line to a vacuum deposition chamber without breaking or reducing the vacuum for the deposition chamber and other components in the deposition system. Isolation valves are provided at the inlet and outlet of t
1. An apparatus for thin film deposition and semiconductor device fabrication including: a. a vaporizer to generate a gas/vapor mixture;b. a vacuum chamber, containing a substrate on which a thin film is to be formed;c. a first filter for removing particles connected to carry a gas/vapor mixture flo
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