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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0944434 (2010-11-11) |
등록번호 | US-8304725 (2012-11-06) |
우선권정보 | JP-2006-079908 (2006-03-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 72 인용 특허 : 6 |
A charged particle beam system wherein the output of the secondary electron detector is detected while the retarding voltage is varied between the values for which the secondary electrons do not reach the sample and the values for which the secondary electrons reach the sample, and the surface poten
1. A scanning electron microscope comprising: a source of an electron beam;an acceleration electrode for accelerating the electron beam;a detector for detecting a signal generated based on an irradiation of the electron beam to a sample;a negative voltage generator for applying a variable potential
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