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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0590802 (2009-11-13) |
등록번호 | US-8304886 (2012-11-06) |
우선권정보 | KR-10-2009-0027756 (2009-03-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 13 |
Provided are a semiconductor device and a method of forming a semiconductor device in which a plurality of patterns are simultaneously formed to have different widths and the pattern densities of some regions are increased using a double patterning. The semiconductor device includes a plurality of c
1. A semiconductor device comprising: a plurality of conductive lines each comprising a first line portion extending on a substrate in a first direction and a second line portion extending from one end of the first line portion in a second direction different from the first direction;a plurality of
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