[특허]Underground utility vault replacement system

Voltek International, Inc.

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Underground utility vault replacement system

특허상세정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	E02D-027/00 E04B-001/00
미국특허분류(USC)	052/745.02; 052/169.6; 052/169.1; 052/169.2; 052/169.14
출원번호	US-0869331 (2010-08-26)
등록번호	US-8307604 (2012-11-13)
발명자 / 주소	Stepanian, Aram Karamardian, Vahe
출원인 / 주소	Voltek International, Inc.
대리인 / 주소	Stetina Brunda Garred & Brucker
인용정보	피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 13

초록
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An underground utility vault replacement method and system which create an inner structural envelope is shown to protect workers and equipment. It restores structural integrity and safety to the area within a decaying underground vault, without major disruptions above and/or below the ground. The system includes a plurality of structural walls, ceiling panels and structural beams and floor track. All structural elements are sized in width/height/thickness and methodically inserted through the existing manhole and maneuvered in place. Wall panels are atta...

대표
청구항
▼

1. A method of replacing a deteriorating vault, the method comprising the steps of: a) obtaining information regarding an existing entry of the deteriorating vault;b) forming a plurality of interlockable structural wall panels and structural ceiling panels, the structural wall panels and structural ceiling panels being sufficiently narrow to permit entry of the structural wall panels and structural ceiling panels through an existing entry of the deteriorating vault;c) inserting the formed structural wall panels and the structural or ceiling panels into the deteriorating vault through the existing entry of the deteriorating vault;d) securing the inserted structural wall panels to a floor of the deteriorating vault;e) securing the ceiling panels to the wall panels secured to the floor of the deteriorating vault;f) repeating steps c) and d) until all of the structural wall and ceiling panels are in place within the deteriorating vault. 2. The method of claim 1 further comprising the step of: filling a gap between a wall of the deteriorating vault and the wall panels and between a ceiling of the deteriorating vault and the ceiling panels with a material to prevent the deteriorating vault from falling down on the wall and ceiling panels. 3. The method of claim 1 wherein the securing the wall panels step includes the step of securing the wall panels sequentially an that the subsequent wall panel secured to the door is immediately adjacent to previously secured wall panels. 4. The method of claim 1 further comprising the step of disposing the wall panels gapped away from the wall of the deteriorating vault for subsequent filling with material. 5. The method of claim 1 wherein the existing entry of the deteriorating vault is a manhole or a neck. 6. A vault replacement system, the system comprising: a deteriorating vault having a utility pipe protruding through a vault wall of the deteriorating vault;a plurality of interlocking wall panels for forming an enclosed wall within the deteriorating vault, at least one of the wall panels having upper and lower wall panel sections, a lower end of the upper wall panel section having a first cutout for receiving the utility pipe, an upper end of a lower wall panel section having a, second cutout for receiving the utility pipe wherein the first and second cutouts of the upper and lower wall panel sections form an aperture through which the utility pipe is received;a filler material disposable between, the utility pipe and the first and second cutouts of the upper and lower wall panel sections;a plurality of interlocking ceiling panels interlockable to an upper portion of the plurality of interlocking wall panels;wherein each of the interlocking wall and ceiling panels are narrower compared to a neck of the deteriorating vault so as to be capable of being brought through the neck and into the deteriorating vault for subsequent assembly.

인용문헌 (13)

이 특허를 인용한 특허 (1)

Skaw, Jack, Holding tanks, systems and methods.

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구성항목	관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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