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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0599694 (2008-05-21) |
등록번호 | US-8334338 (2012-12-18) |
우선권정보 | JP-2007-137012 (2007-05-23) |
국제출원번호 | PCT/JP2008/059387 (2008-05-21) |
§371/§102 date | 20091111 (20091111) |
국제공개번호 | WO2008/143302 (2008-11-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 24 인용 특허 : 4 |
A composition for forming a resist lower layer film, which contains (A) a resin, (B) a butyl ether group-containing crosslinking agent and (C) a solvent.
1. A composition for forming a resist lower layer film, which contains (A) a resin, (B) a butyl ether group-containing crosslinking agent and (C) a solvent, wherein the resin (A) is a polymer having at least one structural unit selected from the group of the structural units represented by the follo
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