[특허]System for preventing contaminants from reaching a gas purifier

System for preventing contaminants from reaching a gas purifier 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B01D-053/02
출원번호	US-0157708 (2011-06-10)
등록번호	US-8343262 (2013-01-01)
발명자 / 주소	Schulte, Thomas Robert Hawke, Michael Henry Pace, Keith Randall Bergman, Jr., Thomas John Warrick, Brian Donald Di Santo, Sandro Boyer, Rick
출원인 / 주소	Praxair Technology, Inc.
대리인 / 주소	Dalal, Nilay S.
인용정보	피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 19

초록

The present invention is directed to the prevention of an exothermic reaction in the gas purifier of an ultra-high purity gas system.

대표청구항 ▼

1. A continuous ultra-high gas purification supply apparatus, comprising: a back-up conventional purity gas supply unit;a gas purifier disposed downstream of the back-up conventional purity gas supply unit, the purifier configured to remove hydrogen, oxygen and carbon monoxide to produce a continuous stream of ultra-high purity gas; anda buffer vessel disposed upstream of the purifier, the buffer vessel sized to hold up a predetermined volume of a conventional purity gas stream prior to routing the conventional purity gas stream to the gas purifier, whereby if a contaminant concentration of the hydrogen, oxygen and carbon monoxide in the conventional purity gas stream each exceeds a predetermined level as determined by a gas analyzer disposed upstream of the buffer vessel, the buffer vessel is configured to switch from on-line to off-line to prevent the contaminated conventional purity gas stream in the buffer vessel from reaching the gas purifier, and the back-up conventional purity gas stream is configured to switch from off-line to on-line to provide a back-up supply of conventional purity gas into the gas purifier. 2. The supply apparatus of claim 1, further comprising an air separation unit upstream of the buffer vessel. 3. The supply apparatus of claim 1, further comprising a particulate filter system downstream of the gas purifier. 4. The supply apparatus of claim 1, wherein the gas purifier includes a chemical adsorbent. 5. The supply apparatus of claim 1, further comprising two or more buffer vessels configured in series. 6. The supply apparatus of claim 1, wherein the buffer volume is sized based on the formula: buffer volume =mass flow rate of conventional purity gas ×delay time/density of said gas. 7. The supply apparatus of claim 1, wherein the buffer vessel includes one or more baffles. 8. The supply apparatus of claim 1, wherein the buffer vessel is configured horizontally to receive the contaminant conventional purity gas stream. 9. The supply apparatus of claim 1, wherein the buffer vessel is configured horizontally to receive the contaminant conventional purity gas stream. 10. The supply apparatus of claim 1, further comprises an isolation valve disposed between the buffer vessel and the gas purifier. 11. The supply apparatus of claim 1, wherein the ultra-high purity gas produced from the purifier is selected from the group consisting of nitrogen, rare and inert gases.

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A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
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