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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0195401 (2011-08-01) |
등록번호 | US-8371792 (2013-02-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 100 |
A substrate processing apparatus including a transport chamber having an end and defining more than one substantially linear substrate transport zone where each transport zone extends longitudinally along the transport chamber between opposing walls of the transport chamber and at least one of the m
1. A substrate processing apparatus comprising: a transport chamber having an end and defining more than one substantially linear substrate transport zone where each transport zone extends longitudinally along the transport chamber between opposing walls of the transport chamber and at least one of
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