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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0435152 (2009-05-04) |
등록번호 | US-8377232 (2013-02-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 6 |
A method for removing hot gas deposits from a system via pressure pulses is provided. The method includes regulating a flow of a mixture of detonation fluid and oxidizer into an expansion chamber; and generating a detonation within the expansion chamber by igniting the mixture of detonation fluid an
1. An apparatus for removing hot gas deposits from a system via pressure pulses, comprising: an expansion chamber configured to receive a mixture of detonation fluid and oxidizer;an initiator;a first control device configured to regulate flow of detonation fluid; anda second control device configure
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