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Gas feed installation for machines depositing a barrier layer on containers 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
  • C23C-016/448
  • C23C-016/455
  • C23C-016/52
출원번호 US-0095327 (2006-11-22)
등록번호 US-8382904 (2013-02-26)
우선권정보 FR-05 53671 (2005-12-01)
국제출원번호 PCT/EP2006/068773 (2006-11-22)
§371/§102 date 20080529 (20080529)
국제공개번호 WO2007/063015 (2007-06-07)
발명자 / 주소
  • Rius, Jean-Michel
출원인 / 주소
  • Sidel Participations
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 18

초록

The present invention relates to a gas feed installation for depositing barrier layers in a container. According to the invention, a balancing step is carried out using a start-up feed device (70) during transient states when the operation passes from a vacuum step, then to a step of depositing a pr

대표청구항

1. A gas feed installation for a machine for depositing barrier layers on the internal wall of containers by means of a cold plasma, comprising: at least a first part comprising a tank (1) filled with a liquid component, which tank (1) is temperature-regulated and pressure-regulated in order to vapo

이 특허에 인용된 특허 (18)

  1. Choi Won-sung,KRX ; Lee Sang-jin,KRX, Apparatus for depositing thin films on semiconductor wafer by continuous gas injection.
  2. Ikeda Yasuo (Tokyo JPX), Chemical vapor deposition method for forming SiO2.
  3. Bang,Won; Wang,Yen Kun; Kao,Yeh Jen, Concentration profile on demand gas delivery system (individual divert delivery system).
  4. Suzuki Toshiyuki (Tokyo JPX) Nakamura Kazuo (Tokyo JPX), Gas discharge device comprising a pressure controller for controlling a pressure over a wide range.
  5. Takeshita, Kazuhiro; Nagashima, Shinji; Mizutani, Yoji; Katayama, Kyoshige, Gas treatment apparatus.
  6. Lee Seaung Suk,KRX ; Kim Ho Gi,KRX ; Kim Jong Choul,KRX ; Choi Soo Han,KRX, Hot-wall CVD method for forming a ferroelectric film.
  7. Ono Hirofumi (Shiga JPX), Liquid vaporizer/feeder.
  8. Yamaguchi Tooru (Itami JPX) Tsutahara Kouichirou (Itami JPX) Suenaga Takayuki (Itami JPX), Liquid vaporizing apparatus.
  9. Yamaguchi Tooru,JPX ; Tsutahara Kouichirou,JPX ; Suenaga Takayuki,JPX, Liquid vaporizing apparatus.
  10. Yamaguchi Tooru,JPX ; Tsutahara Kouichirou,JPX ; Suenaga Takayuki,JPX, Liquid vaporizing apparatus.
  11. Shibuya Munehiro (Osaka JPX) Kitagawa Masatoshi (Osaka JPX) Kamada Takeshi (Osaka JPX) Hirao Takashi (Osaka JPX), Low vapor-pressure material feeding apparatus.
  12. Tsukada Akihiko,JPX ; Hiroe Akihiko,JPX ; Shimomura Kouji,JPX, MOCVD system.
  13. Shiraishi Masatoshi (Kikuchi JPX) Hamada Tomoko (Kumamoto JPX), Method and apparatus for hydrophobic treatment.
  14. Krotov, Peter; Smith, Colin F.; Hall, Randy; Joh, Sooyun, Mixing of materials in an integrated circuit manufacturing equipment.
  15. McKown Clem (Lake Hopatcong NJ), Multiple, parallel packed column vaporizer.
  16. Harada Koji,JPX ; Kawano Fumihiko,JPX, Processing solution supplying apparatus, processing apparatus and processing method.
  17. Jinnouchi Shimpei (Nirasaki JPX) Kuno Hiroshi (Komae JPX) Otsuki Hiroshi (Tokyo JPX), Semiconductor treatment apparatus.
  18. Yoshioka Naoki,JPX ; Ito Seiji,JPX, Unit for vaporizing liquid materials.
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