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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0909225 (2010-10-21) |
등록번호 | US-8487280 (2013-07-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 14 |
A first species is implanted into an entire surface of a workpiece and helium is implanted into this entire surface with a non-uniform dose. The first species may be, for example, hydrogen, helium, or nitrogen. The helium has a higher dose at a portion of a periphery of the workpiece. When the workp
1. A method of implanting a workpiece comprising: implanting a first species into an entire surface of said workpiece, wherein said first species has a dose that is uniform across said entire surface of said workpiece;implanting helium into said entire surface of said workpiece, wherein said helium
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