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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0686803 (2010-01-13) |
등록번호 | US-8568684 (2013-10-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 52 |
Methods are described that have the capability of producing submicron/nanoscale particles, in some embodiments dispersible, at high production rates. In some embodiments, the methods result in the production of particles with an average diameter less than about 75 nanometers that are produced at a r
1. A method for the synthesis of selected inorganic submicron particles, the method comprising: reacting a silicon precursor and a dopant precursor within a flow through a reaction chamber to form product particles, wherein the precursors are delivered from one or more inlets through a reaction zone
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