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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0990239 (2009-05-01) |
등록번호 | US-8616023 (2013-12-31) |
국제출원번호 | PCT/US2009/002717 (2009-05-01) |
§371/§102 date | 20101029 (20101029) |
국제공개번호 | WO2009/151513 (2009-12-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 0 |
Raised features are formed on a transparent substrate having absorption of less than about 20% within a processing wavelength range. A portion of the substrate is irradiated with a light beam to increase the absorption of the irradiated portion of the substrate. Continued irradiation causes local he
1. A method for forming a raised feature on a transparent substrate, the method comprising the steps of: providing a transparent substrate having a surface, the substrate having an absorption of less than about 20% within a processing wavelength range;irradiating a portion of the transparent substra
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