최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0455483 (2012-04-25) |
등록번호 | US-8728574 (2014-05-20) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 21 |
Gas distribution units of fluidized bed reactors are configured to direct thermally decomposable compounds to the center portion of the reactor and away from the reactor wall to prevent deposition of material on the reactor wall and process for producing polycrystalline silicon product in a reactor
1. A process for introducing a first gas and a second gas into a reaction chamber of a reactor, the reactor comprising at least one reaction chamber wall and a gas distribution unit for distributing the first gas and the second gas into the reaction chamber, the distribution unit comprising a distri
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.