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특허 상세정보

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Methods for introducing a first gas and a second gas into a reaction chamber

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) B01J-008/00    C01B-033/027    B01J-008/18    B01J-008/44   
미국특허분류(USC) 427/213; 423/349; 422/143; 422/220; 422/311
출원번호 US-0455483 (2012-04-25)
등록번호 US-8728574 (2014-05-20)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    Armstrong Teasdale LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 21
초록

Gas distribution units of fluidized bed reactors are configured to direct thermally decomposable compounds to the center portion of the reactor and away from the reactor wall to prevent deposition of material on the reactor wall and process for producing polycrystalline silicon product in a reactor that reduce the amount of silicon which deposits on the reactor wall.

대표
청구항
▼

1. A process for introducing a first gas and a second gas into a reaction chamber of a reactor, the reactor comprising at least one reaction chamber wall and a gas distribution unit for distributing the first gas and the second gas into the reaction chamber, the distribution unit comprising a distributor having a plurality of distribution openings including at least one peripheral opening and at least one central opening, each of the distribution openings having a channel portion and a throttle portion, the distribution unit further comprising an inlet b...

이 특허에 인용된 특허 (21)

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IPC 상위 출원인