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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0496866 (2001-11-29) |
등록번호 | US-8733131 (2014-05-27) |
국제출원번호 | PCT/EP01/13929 (2001-11-29) |
§371/§102 date | 20041130 (20041130) |
국제공개번호 | WO03/045861 (2003-06-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 7 |
An apparatus and method for chemical deposition on a rod member having a support structure for supporting the rod member substantially coaxial to a deposition axis; a burner for depositing chemical substances on the rod member; and a rotation device for imparting a rotation motion to the rod member.
1. A method for chemical deposition on a rod member, comprising: supporting the rod member with its longitudinal axis substantially coaxial to a deposition axis, including applying a radial constraint to a first end portion of the rod member with a first support member rotatively coupled to the firs
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