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Plasma discharge self-cleaning filtration system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-024/46
  • B01D-025/32
  • B01D-024/00
출원번호 US-0672005 (2008-08-07)
등록번호 US-8784657 (2014-07-22)
국제출원번호 PCT/US2008/072502 (2008-08-07)
§371/§102 date 20100518 (20100518)
국제공개번호 WO2009/048682 (2009-04-16)
발명자 / 주소
  • Cho, Young I.
  • Fridman, Alexander
  • Gutsol, Alexander F.
  • Yang, Yong
출원인 / 주소
  • Drexel University
대리인 / 주소
    Baker & Hostetler LLP
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 6

초록

The present invention is directed to a novel method for cleaning a filter surface using a plasma discharge self-cleaning filtration system. The method involves utilizing plasma discharges to induce short electric pulses of nanoseconds duration at high voltages. These electrical pulses generate stron

대표청구항

1. A method of cleaning a filter having filtered particulate thereon, said filter positioned within a liquid, said method comprising: applying an electric potential to a first electrode positioned within the liquid,so as to generate a pulsed plasma dischargesaid pulsed plasma discharge creating an e

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Taylor,Robert W.; Sedman,Charles B., Apparatus and method for the removal of particulate matter in a filtration system.
  2. Barankova Hana,SEX ; Bardos Ladislav,SEX, Apparatus for plasma treatment of a gas.
  3. Parkinson, David John, Filtration apparatus.
  4. Taylor, Robert W., Methods for operating a filtration system.
  5. Masuda, Senichi, Pulse power supply for generating extremely short pulse high voltages.
  6. Josephson, Gary B.; Heath, William O.; Aardahl, Christopher L., Vapor purification with self-cleaning filter.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Cho, Young I.; Cho, Daniel J.; Fridman, Alexander; Kim, Hyoungsup, Plasma spark discharge reactor and durable electrode.
  2. Cho, Young I.; Fridman, Alexander; Cho, Daniel J.; Rabinovich, Alexander, System and method for disinfection and fouling prevention in the treatment of water.
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