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Electroless plating pretreatment agent, electroless plating method using same, and electroless plated object 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-018/30
  • B05D-001/18
  • B05D-003/10
  • C23C-018/18
  • C23C-018/16
  • C23C-018/20
출원번호 US-0501139 (2011-03-14)
등록번호 US-8814997 (2014-08-26)
우선권정보 JP-2010-066705 (2010-03-23)
국제출원번호 PCT/JP2011/055951 (2011-03-14)
§371/§102 date 20120410 (20120410)
국제공개번호 WO2011/118439 (2011-09-29)
발명자 / 주소
  • Imori, Toru
  • Suzuki, Jun
  • Murakami, Ryu
  • Aiba, Akihiro
  • Ito, Junichi
출원인 / 주소
  • JX Nippon Mining & Metals Corporation
대리인 / 주소
    Flynn, Thiel, Boutell & Tanis, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 12

초록

An electroless plating pretreatment agent that can retain stably Pd(II) over a long period of time in an organic solvent, an electroless plating method using the same that is capable of forming an electroless plated film having excellent adhesion, and an electroless plated object. The electroless pl

대표청구항

1. An electroless plating pretreatment agent consisting of an organic palladium compound and a coordination compound having a functional group with a metal-capturing capability dissolved in an organic solvent, in which the coordination compound is selected from the group consisting of imidazole anal

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Yamamoto Hiroshi (Yuki JPX) Shimazaki Takeshi (Hitachi JPX) Kuramochi Kazuichi (Shimodate JPX), Catalyst for electroless plating.
  2. Stamp Lutz (Berlin DEX) Zettelmeyer Elisabeth (Berlin DEX) Meyer Heinrich (Berlin DEX) Desmaison Gonzalo U. (Berlin DEX), Complex oligomeric or polymeric compounds for the generation of metal seeds on a substrate.
  3. Ferrier Donald (Thomaston CT) Yakobson Eric (Waterbury CT), Composition and method for selective plating.
  4. Otsuka Kuniaki (Osaka JPX) Torikai Eiichi (Yao JPX) Kawagishi Shigemitsu (Suita JPX) Okuno Kazuyoshi (Ashiya JPX), Electroless palladium plating composition.
  5. Imori,Toru; Sekiguchi,Junnosuke; Yabe,Atsushi, Electroless plating method and semiconductor wafer on which metal plating layer is formed.
  6. Imori, Toru; Yabe, Atsushi, Metal plating method and pretreatment agent.
  7. Imori,Toru; Kumagai,Masashi; Sekiguchi,Junnosuke, Metal plating method, pretreatment agent, and semiconductor wafer and semiconductor device obtained using these.
  8. Imori, Toru; Sekiguchi, Junnosuke; Yabe, Atsushi; Fujihira, Yoshihisa, Method for electroless plating and metal-plated article.
  9. Rzeznik, Maria Anna; Liu, Feng, Plating catalyst and method.
  10. Kawamura, Toshifumi; Suzuki, Jun; Imori, Toru, Pretreating agent for electroless plating, method of electroless plating using the same and product of electroless plating.
  11. Kawamura, Toshifumi; Imori, Toru, Resin substrate material, electronic component substrate material manufactured by electroless plating on the same, and method for manufacturing electronic component substrate material.
  12. Ehrich Hans J. (Berlin DEX) Clauss Wolfgang (Berlin DEX) Mahlkow Hartmut (Berlin DEX), Solution and process for the activation of surfaces for metallization.
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