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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0960952 (2010-12-06) |
등록번호 | US-8820658 (2014-09-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 6 |
A heat resistant piezo bimorph synthetic jet apparatus comprises a working fluid chamber partially defined by a plate, a working fluid port that provides fluid flow communication between the working fluid chamber and a working fluid mass, and a bimorph piezoelectric structure included in the plate.
1. A heat resistant piezo bimorph synthetic jet apparatus for pulsing high temperature working fluid, the apparatus comprising: a working fluid chamber partially defined by a first plate;a working fluid port configured to provide fluid flow communication between the working fluid chamber and a worki
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