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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0117933 (2011-05-27) |
등록번호 | US-8875711 (2014-11-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 170 |
Described herein are nasal devices, including nasal devices formed in layers having four or fewer layers. In some variations, the nasal devices include a single integrated layer from which the flap of the airflow resistor is formed as well as the base of the holdfast region. The nasal devices may in
1. A nasal device for inhibiting exhalation more than inhalation, the nasal device comprising: a flap/holdfast layer comprising a flap portion and a holdfast portion;a flap limiting layer adjacent to the flap portion, wherein the flap limiting layer and the flap portion form an airflow resistor conf
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