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Flow rate controller and processing apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F16K-031/02
  • G05D-007/06
  • G01F-001/68
  • G01F-005/00
출원번호 US-0650247 (2012-10-12)
등록번호 US-8893743 (2014-11-25)
우선권정보 JP-2011-227116 (2011-10-14)
발명자 / 주소
  • Okabe, Tsuneyuki
  • Moriya, Shuji
  • Matsuno, Kazushige
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited
대리인 / 주소
    Cantor Colburn LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 15

초록

The flow rate controller controlling a flow rate of gas supplied through a gas passage includes: a main gas pipe; a flow rate detecting unit detecting the flow rate of gas supplied through the main gas pipe and outputting a flow rate signal; a flow rate control valve mechanism controlling a flow rat

대표청구항

1. A processing apparatus which performs processing on a processing target, the processing apparatus comprising: a processing apparatus main body which comprises a processing container accommodating the processing target and performs processing on the processing target;an exhaust system which exhaus

이 특허에 인용된 특허 (15)

  1. Shajii, Ali; Kottenstette, Nicholas; Ambrosnia, Jesse, Apparatus and method for pressure fluctuation insensitive mass flow control.
  2. Haas Jon H. (Warrington PA), Apparatus for the measurement and control of gas flow.
  3. Morikawa,Fumio; Kondou,Hiroshi, Flow rate control device.
  4. Anderson Richard L. (Austin TX), Intelligent mass flow controller.
  5. Isobe, Yasuhiro; Horinouchi, Osamu; Tanaka, Yuki; Yamaguchi, Masao; Furukawa, Yukimasa, Mass flow meter and mass flow controller.
  6. Lichter Patrick A. ; Lien Spencer J., Personal computer card for collection for real-time biological data.
  7. Moriya Shuji (Yamanashi JPX) Matsuo Takenobu (Kofu JPX) Wakabayashi Tsuyoshi (Kofu JPX), Processing apparatus and flow control arrangement therefor.
  8. Moriya Shuji (Yamanashi JPX) Matsuo Takenobu (Kofu JPX) Wakabayashi Tsuyoshi (Kofu JPX) Miura Kazutoshi (Tokyo JPX) Mori Takahiro (Sagamihara JPX), Processing apparatus using gas.
  9. Watanabe, Takashi; Iwata, Masayuki; Sakagami, Koji; Kiyota, Satoru, Radiator heat-dissipation simulation system.
  10. Ishida, Shoji, Semiconductor manufacturing apparatus enabling inspection of mass flow controller maintaining connection thereto.
  11. Emmanuel Vyers, System and method for a digital mass flow controller.
  12. Mark C. Easton, System for and method of monitoring the flow of semiconductor process gases from a gas delivery system.
  13. Bump Scott S. ; Campbell Gary P. ; Dille Joseph C., Thermal mass flowmeter and mass flow controller, flowmetering system and method.
  14. Lenz Gary A. (Eden Prairie MN) Brown Gregory C. (Minnetonka MN) Warrior Jogesh (Chanhassen MN), Valve positioner with pressure feedback, dynamic correction and diagnostics.
  15. Suzuki, Kunihiko; Ito, Hideki, Vapor phase epitaxy apparatus and irregular gas mixture avoidance method for use therewith.
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