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Apparatus for controlling gas distribution using orifice ratio conductance control 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F17D-003/00
  • F16K-051/02
출원번호 US-0091827 (2011-04-21)
등록번호 US-8905074 (2014-12-09)
발명자 / 주소
  • Cobb, Corie Lynn
  • Xu, Ming
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Moser Taboada
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 13

초록

Apparatus for controlling gas distribution are provided. In some embodiments, apparatus for controlling gas distribution may include a first flow path from an inlet to a first outlet; a plurality of first orifices disposed within the first flow path; a plurality of first valves that control gas flow

대표청구항

1. An apparatus for controlling gas distribution, comprising: a first flow path from an inlet to a first outlet;a plurality of first orifices disposed within the first flow path;a plurality of first valves that selectively control gas flow through respective ones of the plurality of first orifices t

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Kolibas James A. (Broadview Heights OH), Circulating and dead end color changer with improved valves and manifolds.
  2. Haley Frank P. (Upland CA), Digital control valve.
  3. Carter Stephen,CAX, Digital gas metering system using tri-stable and bi-stable solenoids.
  4. Carter Stephen A. (Mississauga CAX) Williamson Bryan C. (Burlington CAX) Kozole Karl H. (Weston CAX), Flow control system.
  5. Sperling Jac K. (Boulder CO) Sable Arthur J. (Boulder CO) Everest ; III D. Clark (Park City UT) Ciciora John A. (Denver CO) Polson Jerry H. (Boulder CO), Method and apparatus for controlling the temperature of a liquid.
  6. Lull, John M.; Valentine, William S., Method and apparatus for providing a determined ratio of process fluids.
  7. Lull,John M.; Valentine,William S., Method and apparatus for providing a determined ratio of process fluids.
  8. Hirofumi Kitayama JP; Yoichi Kurono ; Nobukazu Ikeda JP; Naoya Masuda JP, Method for feeding gases for use in semiconductor manufacturing.
  9. Stobbs Thomas J. (Brookfield WI) Trickle Glen W. (Elm Grove WI), Porportional pressure control valve.
  10. Hosoya Yukio (Shizuoka JPX) Fukuyo Kei (Shizuoka JPX), Solenoid valve.
  11. Narita,Masaru; Sato,Hideharu, Solenoid valve.
  12. Rosko,M. Scot, Sprayer with non-faucet control.
  13. Tofte S. David (Mankato MN), Tube metering control system.
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