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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0111334 (2011-05-19) |
등록번호 | US-8916793 (2014-12-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 15 |
Methods and systems for controlling temperatures in plasma processing chamber via pulsed application of heating power and pulsed application of cooling power. In an embodiment, temperature control is based at least in part on a feedforward control signal derived from a plasma power input into the pr
1. A plasma processing apparatus, comprising: a process chamber including a chuck configured to support the workpiece during processing;a first heat transfer fluid reservoir at a first temperature;a second heat transfer fluid reservoir at a second temperature;a first supply line and a first return l
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